PRISMO HiT3® MOCVD设备
报价:面议
品牌: 中微公司
产地: 上海
关注度: 70
型号: PRISMO HiT3® MOCVD设备
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产品介绍

中微具有自主知识产权的MOCVD设备PRISMO HiT3®,是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备,反应腔**温度可大达1400摄氏度,单炉可生长18片2英寸外延片,并可延伸到4英寸晶片。 中微高温MOCVD设备PRISMO HiT3专为深紫外LED量产而设计,是目前业内紫外LED产能先进的高温MOCVD设备。

产品特点

适用于高温氮化铝和深紫外 LED生长的关键设备

优异均匀性和高效能相结合

适合高晶体质量和高AIN生长速率的新颖腔体设计

创新的实时监控系统

工艺温度**可达1400度,具有优异的温场均匀性和控制稳定性

具有高稳定性、自动化的真空传送系统,抑制颗粒的产生

界面友好、全自动化的操作系统

竞争优势

优异的工艺重复性,简化工艺调整需求,提高产品良率

单炉可生长18片2英寸外延晶片,具有较低的生产成本

集成顶盖升降机构,简化设备维护,提高设备利用率

业界**的UVC LED产能及维护周期


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中微半导体设备(上海)股份有限公司为您提供中微公司PRISMO HiT3® MOCVD设备,PRISMO HiT3® MOCVD设备产地为上海,属于半导体行业专用仪器,除了PRISMO HiT3® MOCVD设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备、Primo nanova®12英寸刻蚀设备、Primo D-RIE刻蚀设备。
工商信息
企业名称

中微半导体设备(上海)股份有限公司

企业类型

信用代码

913101157626272806

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