Primo SSC AD-RIE®是中微于2013年推出的单反应台电介质刻蚀产品，在Primo AD-RIE®产品技术和Primo平台概念的基础上，通过在一个平台上集成六个单反应台以优化产能。除了可独立输运气体的单反应台腔体设计以外，为应对2x纳米以下特别是接触孔刻蚀等关键制程的挑战，该设备还具有以下特性：同步脉冲射频系统、可冷却聚焦环工艺组件和甚低压气体抽运系统等。Primo SSC AD-RIE有利于处理多层薄膜刻蚀的微负载问题、极端边缘形貌问题以及接触孔刻蚀的终端控制问题。Primo SSC AD-RIE已在主流客户16纳米芯片生产线上稳定量产。