Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备
报价:面议
品牌: 中微公司
产地: 上海
关注度: 66
型号: Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀产品
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产品介绍

Primo HD-RIE®是中微于2015年推出的新一代电介质刻蚀产品,是在Primo SSC AD-RIETM设计基础上实现的具有六个单反应台腔体的系统,定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决方案。该设备具有以下新特性:更高的同步脉冲射频功率、高功率高温静电托盘、气体脉冲、多区气体调节、可冷却聚焦环工艺组件和更稳定的上电极温度控制等。Primo HD-RIE在3D-NAND及DRAM中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上表现优异,在一些关键制程上已实现量产。

Primo HD-RIE®

为NAND和DRAM芯片制造提供创新的刻蚀解决方案

产品特点

具有独立气体输运系统的单反应台腔体设计

多区气体调节以及双区ESC温度控制

高功率以及高温静电吸盘

气体脉冲

双级同步脉冲射频系统,甚高功率的低频射频脉冲以提供高离子轰击能量

稳定的上电极温度控制系统

可冷却聚焦环以防止硅片边缘刻蚀停止

高上下电极面积比,以应用于中高深宽比刻蚀

竞争优势

高电介质材料刻蚀速率,多手段刻蚀均匀度调节

高粒子轰击能量,以扩大高深宽比刻蚀工艺窗口

气体脉冲系统,提供更灵活的工艺控制方案

应对特殊工艺的高温高功率静电吸盘选项


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中微半导体设备(上海)股份有限公司为您提供中微公司Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备,Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备产地为上海,属于半导体行业专用仪器,除了Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备、Primo nanova®12英寸刻蚀设备、Primo D-RIE刻蚀设备。
工商信息
企业名称

中微半导体设备(上海)股份有限公司

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信用代码

913101157626272806

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