Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
报价:面议
品牌: 中微公司
产地: 上海
关注度: 984
型号: Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
标签

半导体行业专用仪器

Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备

国产半导体行业专用仪器

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产品介绍

产品特点

双反应台腔体设计

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泵

双通道进气

精密的腔体温控和RF窗口温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盘

13兆赫或400千赫脉冲偏压系统

可选的集成除胶反应腔

竞争优势

离子浓度和离子能量独立可控

高排气量和更宽的工艺窗口

优秀的刻蚀均匀性

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率,低生产成本(CoO)


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产品小贴士

Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备由中微半导体设备(上海)股份有限公司提供,产地为上海,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、综合其他等领域,Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。

据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。

根据官方产品资料显示:Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备的品牌为中微公司。

在同系列产品中,您还可以选择以下型号:
产品名称 品牌 型号 产地类型 价格
Primo D-RIE刻蚀设备 中微公司 刻蚀设备 国产 电议
PRISMO UniMax® MOCVD设备 中微公司 PRISMO UniMax® MOCVD设备 国产 电议
Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备 中微公司 Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备 国产 电议

官方链接:
https://m.cnpowder.com.cn/ns35600/productsdetail_375950.html
来源:中微半导体设备(上海)股份有限公司
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中微半导体设备(上海)股份有限公司为您提供中微公司Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备,Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备产地为上海,属于半导体行业专用仪器,除了Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Primo D-RIE刻蚀设备、PRISMO UniMax® MOCVD设备、Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备。
工商信息
企业名称

中微半导体设备(上海)股份有限公司

企业类型

信用代码

913101157626272806

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