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高真空磁控溅射系统
报价:面议
品牌: | 韫茂科技 |
产地: | 福建 |
关注度: | 1760 |
型号: | PVD-100 |
产品介绍
高真空磁控溅射系统
技术参数:
1高真空腔体:2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空,极限压力<5e-9 Torr
2排气速率:从ATM到1E-7 Torr<20分钟(负载锁)
3样品台:**4寸Wafer,可加热RT-300ºC
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厦门韫茂科技有限公司为您提供韫茂科技高真空磁控溅射系统,高真空磁控溅射系统产地为福建,属于实验设备,除了高真空磁控溅射系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供超高真空多腔体磁控溅射系统、公斤级粉末ALD、公斤级粉体原子层沉积镀膜系统。
工商信息
企业名称
厦门韫茂科技有限公司
企业类型
信用代码
91350200MA31JEYQ4Y
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围