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高真空磁控溅射系统
报价:面议
品牌: 韫茂科技
产地: 福建
关注度: 1971
型号: PVD-100
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产品介绍

高真空磁控溅射系统

005.png

技术参数:

1高真空腔体:2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空,极限压力<5e-9 Torr

2排气速率:从ATM到1E-7 Torr<20分钟(负载锁)

3样品台:**4寸Wafer,可加热RT-300ºC







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厦门韫茂科技有限公司为您提供韫茂科技高真空磁控溅射系统,高真空磁控溅射系统产地为福建,属于实验设备,除了高真空磁控溅射系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供超高真空多腔体磁控溅射系统、公斤级粉体原子层沉积镀膜系统、公斤级粉末ALD。
工商信息
企业名称

厦门韫茂科技有限公司

企业类型

信用代码

91350200MA31JEYQ4Y

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