2 年
高级会员
已认证
双腔室UHV磁控溅射镀膜系统
报价:面议
品牌: | 韫茂科技 |
产地: | 福建 |
关注度: | 1680 |
型号: | QBT-P |
产品介绍
双腔室超高真空双磁控测射系统 QBT-P
磁控溅射技术原理
在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后,并不直接飞向阳极,而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量,使之电离而本身变成低能电子。这些低能电子*终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收,避免高能电子对极板的强烈轰击,消除了二级溅射中极板被轰击加热和被电子辐照引起的损伤,体现出磁控溅射中极板“低温”的特点。由于外加磁场的存在,电子的复杂运动增加了电离率,实现了高速溅射。
磁控溅射技术特点
成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积镀膜
技术参数
QBT-P 技术参数 Technical Specifications (超导Ta/TiN/NbN/Al/Nb等制备) | |
超高真空腔体 UHV Chamber | 2个UHV Chamber,包括Loadlock及Sputtering, 极限真空Ultimate Pressure<3E-9Torr |
排气速率Pumping Spead | 从ATM到1E-7Torr<20min (loadlock) |
基板加热 Wafer Heating | RT-900oC |
离子束清洗 Ion Milling | 考夫曼离子源, Ion Energy 100-600eV, 100-1200eV; Ion Beam Current:20-200mA, Ф100基板刻蚀均一性<3% |
磁控溅射Sputtering | DC or RF Power Supply, 基板与靶材距离连续可调Wafer and Target Space can Change Continoulsly |
基板传输 Wafer Transfer | 高度可靠和可重复的基板传输能力 |
人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO |
工艺展示
问商家
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的工作原理介绍?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的使用方法?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统多少钱一台?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统使用的注意事项
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的说明书有吗?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的操作规程有吗?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的报价含票含运费吗?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统有现货吗?
- 双腔室UHV磁控溅射镀膜系统包安装吗?
推荐产品
供应产品
厦门韫茂科技有限公司为您提供韫茂科技双腔室UHV磁控溅射镀膜系统,双腔室UHV磁控溅射镀膜系统产地为福建,属于实验设备,除了双腔室UHV磁控溅射镀膜系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供公斤级粉末ALD、超高真空多腔体磁控溅射系统、公斤级粉体原子层沉积镀膜系统。
工商信息
企业名称
厦门韫茂科技有限公司
企业类型
信用代码
91350200MA31JEYQ4Y
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围