超高真空多腔体磁控溅射系统

技术参数：

基板：可加热至RT-900ºC，可旋转，基板与靶材距离连续可调，晶圆和靶空间可以连续变化

极限真空：<3E-9Torr

基板传输：高度可靠和可重复的基板传输能力