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高真空磁控溅射镀膜设备JCP200
报价：面议
| 品牌： | 北京泰科诺 |
| 产地： | 北京 |
| 关注度： | 10 |
| 型号： | 高真空磁控溅射镀膜设备JCP200 |
产品介绍
设备型号： JCP200
真空腔室结构： 立式上开盖结构
真空腔室尺寸： Φ220mm×H300mm
加热温度： 室温～ 500℃
基片台尺寸： Φ100mm
膜厚不均匀性： Φ50mm 范围内≤ ±5.0%
溅射靶： Φ2 英寸磁控靶 1 支 兼容 DC/RF 溅射
工艺气体 ：1-2 路气体流量控制
控制方式 ：PLC + 触摸屏控制
占地面积 （主机） ：L600mm×W800mm×H1700mm
总功率 ：≥ 6kW
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北京泰科诺科技有限公司为您提供北京泰科诺高真空磁控溅射镀膜设备JCP200，高真空磁控溅射镀膜设备JCP200产地为北京，属于专用设备，除了高真空磁控溅射镀膜设备JCP200的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供真空退火炉/钎焊炉VTHK350、大面积平板镀膜设备JCPF3500、钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZHDS500。
工商信息
企业名称
北京泰科诺科技有限公司
企业类型
信用代码
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
