设备型号：JCPY500 

真空腔室结构：后置抽气系统

真空腔室尺寸：Φ500mm×H450mm带 Load-Lock 功能 支持单片或多片进取样

加热温度 ：室温～ 500℃

基片台尺寸：Φ150mm

膜厚不均匀性 ：Φ100mm 范围内≤ ±5.0%

溅射靶 ：Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支（可选）

工艺气体 ：3 路气体流量控制

控制方式 ： PLC/PC（可选）

占地面积 （主机） ：L1800mm×W800mm×H1845mm

总功率 ：≥ 15kW

大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备

1. 可提供工艺技术支持，及良好售后服务；

2. 设备结构紧凑，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；

3. 单靶溅射 / 多靶依次溅射或共同溅射，兼容 DC/MF/RF 溅射等功能 。

4. 可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀摸、透明导电膜，如钙钛矿空穴传输层、金属电极以及透明导电层ITO膜层的制备等”；