1、产品信息   

2、产品规格

定制

3、产品概述

铝靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺，主要应用于制备光学薄膜、金属薄膜、半导体器件和其他高科技领域的产品。由于铝具有良好的导热性和导电性，因此在这些领域中得到广泛应用。例如，铝靶材可用于制备反射镜、透镜、光学滤波器、半导体器件等。此外，铝靶材还可用于制备太阳能电池、显示器件、电子器件和其他高端工业产品。

4、产品用途

高纯度：铝靶材通常具有高纯度，能够满足各种工艺对材料纯度的要求。

工艺适用性：铝靶材可用于不同的薄膜沉积工艺，包括物理蒸发沉积和磁控溅射等。

应用领域：铝靶材在半导体制造、光学涂层、薄膜材料等领域有广泛的应用。

性能优异：铝靶材具有轻质、良好的导热性和耐腐蚀性，能够满足高端产品对材料性能的要求。