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日本 NIDEK FT‑900 高精度平坦度测定机|晶圆半导体基板快速平面度检测设备

日本 NIDEK FT‑900 高精度平坦度测定机|晶圆半导体基板快速平面度检测设备

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一、产品概述

日本 NIDEK FT‑900 为高性能斜入射干涉式平坦度测定设备,专为半导体晶圆、化合物基板、玻璃基板、光学薄片等精密工件打造。设备采用激光斜入射干涉结合相位偏移解析技术,无需逐点扫描,全域一次性成像,在极短时间内即可完成工件全表面平坦度、翘曲度、厚度偏差的高精度检测。

仪器最高支持 φ200mm(8 英寸)晶圆试样,检测算法完全遵循 SEMI 半导体行业标准,一键输出 GBIR (TTV)、SBIR、Bow、Sori 等全套晶圆关键参数。具备优秀的测量稳定性与纳米级解析能力,可适配镜面、半透明基材、带开孔基板、异形薄片等多种复杂样品;既可满足实验室新材料研发阶段超高精度试样分析,又胜任产线上来料、抛光后基板的大批量快速质检,是半导体与光电基板平面形貌管控的优选检测平台。

二、核心技术亮点

  1. 非接触式干涉检测,无损试样表面搭载 He‑Ne 激光干涉光源,全程无物理触碰,不会划伤晶圆光刻层、镀膜层,适用于抛光晶圆、脆性薄膜基板等高附加值样品检测。

  2. 全域同步成像,检测效率优异工件整面数据一次性解析完成,单次测量时长≤6 秒;正反面同步检测最长≤50 秒,有效提升样品检测通量,适配批量筛查需求。

  3. 强大样品兼容性,透明基板亦可精准测量镜面、粗糙非镜面、透明 / 半透明基板、带孔、异形工件均可检测;透明样品可抑制背面反射干扰,精准获取基材正面平坦度数据。

  4. SEMI 标准算法,晶圆评价指标齐全内置半导体行业标准计算模型,可直接输出 GBIR、GFLR、GF3R、SBIR、TTV、Bow、Sori 翘曲、锥度等全套晶圆平坦度指标。

  5. 多维度可视化数据分析,报告直观测量结果支持数值报表、等高线云图、3D 鸟瞰视图、截面轮廓曲线多种展示形式;原始测量数据支持二次运算,可自由设定边缘排除区域重新分析。

  6. 专用解析软件,流程可复现Windows 平台配套干涉条纹分析工作站,检测配方程序可存储调用,减少人为操作带来的误差,操作简单易上手。

  7. 模块化选配,拓展能力强可更换多规格晶圆真空吸盘;可选方形基板测量、异形样品检测、应力分析、步进模拟等高级功能模块。

三、详细技术参数表


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四、可测量样品类型

‑ 半导体硅晶圆、化合物半导体晶圆 ‑ 氧化物基板、玻璃基板、蓝宝石薄片 ‑ 光学掩模版、陶瓷薄片 ‑ 金属试样片、异形加工基板 ‑ 透明、半透明薄片材。

森泽  2026-09-03  |  阅读:18
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