真空室结构:

圆筒形上升盖

真空室尺寸:

φ600×500mm

极限真空度:

≤6.0E-4Pa

沉积源:

样品尺寸，温度:

φ240mm，1片，水冷却

占地面积（长x宽x高）:

约3米×1.1米x2米

电控描述:

全自动

工艺:

提供标准镀膜工艺

特色参数 :

1路工作气路，2路备用气路

产品概述：
本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备，可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。

设备用途：
可用于开发类金刚石膜等