高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400
报价:面议
品牌: 沈阳科学仪器
产地: 辽宁
关注度: 584
型号: 高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400
展位推荐
更多  
产品介绍

产品概述:
系统主要由真空反应室、上盖组件、喷淋头装置、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
本系统具有PECVD功能和热丝CVD功能。

设备用途:
PECVD即是化学气相沉积法,是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域,PCEVD是等离子体增强化学气相沉积英文的各个词字母的**字母。

问商家
相关产品
更多  
金属有机源气相沉积系统--MOCVD

型号: 金属有机源气相沉积系统--MOCVD

面议
高真空硬碳膜制备系统--FHL600

型号: 高真空硬碳膜制备系统--FHL600

面议
高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

型号: 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

面议
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ350

型号: 高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ350

面议
推荐产品 供应产品
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司为您提供沈阳科学仪器高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400,高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400产地为辽宁,属于专用设备,除了高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供罗茨干式真空泵GH-80A、小型超高真空退火炉、涡旋干式真空泵。
工商信息
企业名称

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

企业类型

信用代码

912101004105812660

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

分类

留言咨询

留言类型

需求简述

联系信息

联系人

单位名称

电子邮箱

手机号

图形验证码

点击提交代表您同意《用户服务协议》《隐私协议》