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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
报价：面议
| 品牌： | 沈阳科学仪器 |
| 产地： | 辽宁 |
| 关注度： | 285 |
| 型号： | 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300 |
产品介绍
占地面积（长x宽x高）:
约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性：≤±5%
产品概述：
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
设备用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
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工商信息
企业名称
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
企业类型
信用代码
912101004105812660
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
