高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
报价:面议
品牌: 沈阳科学仪器
产地: 辽宁
关注度: 511
型号: 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
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产品介绍

占地面积(长x宽x高):

约1.8米x0.97米x1.9米

 

电控描述:

全自动

 

工艺:

片内膜厚均匀性:≤±5%

 


产品概述:
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

设备用途:
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。

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企业名称

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

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信用代码

912101004105812660

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