中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
  • 沈阳科学仪器
    参考报价:电议
    型号:高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
    产地:辽宁
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  • 详细介绍:


    真空室结构:

    方形前开门

     

    真空室尺寸:

    φ400x400x400mm

     

    极限真空度:

    ≤6.6E-5Pa

     

    沉积源:

    永磁靶3套,φ2英寸

     

    样品尺寸,温度:

    φ4英寸,1片,**800℃

     

    占地面积(长x宽x高):

    约1.8米×1.7米×2米

     

    电控描述:

    全自动

     

    工艺:

    片内膜厚均匀性:≤±3%