高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
报价:面议
品牌: 沈阳科学仪器
产地: 辽宁
关注度: 532
型号: 高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
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产品介绍

真空室结构:

方形前开门

 

真空室尺寸:

φ400x400x400mm

 

极限真空度:

≤6.6E-5Pa

 

沉积源:

永磁靶3套,φ2英寸

 

样品尺寸,温度:

φ4英寸,1片,**800℃

 

占地面积(长x宽x高):

约1.8米×1.7米×2米

 

电控描述:

全自动

 

工艺:

片内膜厚均匀性:≤±3%

 


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企业名称

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

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信用代码

912101004105812660

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