智能PECVD设备是目前最新型的一款设备，将所有的控制部分集为一体，此款设备是我司在2013年获得专利的设备。可配备PE射频电源，将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体，可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用，从而很大程度上优化实验的工艺条件。 我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。 1、与传统CVD系统比较，生长温度更低。 2、使用滑轨炉实现快速升温和降温。 3、设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效，均匀生长。