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日本 Filgen UV253 系列 UV 臭氧清洁器 —— 184.9/253.7nm 双波长光化学氧化分解型干式清洗装置

日本 Filgen UV253 系列 UV 臭氧清洁器

—— 184.9/253.7nm 双波长光化学氧化分解型干式清洗装置

1  产品概述

UV253 系列 UV 臭氧清洁器是 Filgen 株式会社(フィルジェン株式会社)科学仪器部门(biosciences & nanosciences)的代表性产品之一。该装置利用 184.9nm 253.7nm 双波长紫外线的光化学作用,与臭氧协同去除基板表面的有机污染物质,属于无损伤(damage-free)的干式清洗方法:通过光化学氧化分解过程,将基板、器具等表面附着的有机污染物分解去除,不使用酸、碱或有机溶剂,可在常压(大气压)下工作,无需真空装置。

UV253 系列覆盖紧凑标准型(8 英寸晶圆对应)、12 英寸晶圆对应型、16 英寸晶圆对应型、双面照射型以及手持型等多种规格,广泛应用于薄膜涂覆前处理、光刻胶去除、电子与光学部件清洗、电子显微镜样品处理等半导体与纳米科技相关工序。

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2  UV 臭氧清洗原理

UV 臭氧清洗是短波长紫外线的光敏氧化(photosensitized oxidation)过程。低压汞灯同时放射 184.9nm 253.7nm 两种波长的紫外线:184.9nm 紫外线使氧分子(O₂)解离,生成氧原子并进一步转化为臭氧(O₃);253.7nm 紫外线使臭氧分解,同时产生活性氧(ROS)。253.7nm 的紫外光大部分被碳氢化合物与臭氧吸收,从而在基板表面附近持续生成高活性的氧化性物种。

基板上的有机污染物——如光刻胶、树脂、硅油、助焊剂等——吸收短波长紫外线后发生分解,分解产物与活性氧反应,生成二氧化碳(CO₂)、水(H₂O)等简单的挥发性分子,脱离基板表面,从而实现有机污染物的去除。当 184.9nm 253.7nm 两种波长同时存在时,氧原子持续生成并转化为臭氧,臭氧随即被 253.7nm 紫外线分解,形成持续的氧化分解循环。两种波长对应的紫外线能量分别为 647 kJ/mol184.9nm)与 472 kJ/mol253.7nm),足以切断多数有机化合物中的化学键。

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UV 臭氧清洗的效果可通过表面润湿性的变化直观确认:以玻璃表面为例,UV 臭氧处理 15 分钟、30 分钟后,滴落同等体积纯水的水滴形状与接触角明显变化,表明表面有机污染物随时间推移被逐步去除,表面由疏水转变为亲水状态。

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3  装置特点与安全设计

UV253 系列的主要特点包括:可轻松去除超声波清洗无法除去的基板有机污染物;可去除湿式清洗过程中残留的有机溶剂;在不损伤基板表面的前提下去除有机污染;使 LB 膜的累积变得容易(累积率大幅提升);以及常压可用、无需真空装置的干式清洗。台面型装置体积紧凑,适合在台面上省空间使用。

装置支持气体置换功能:连接氧气与氮气气瓶并预先设定流量后,系统自动依次执行"氧气导入 ⇒ UV 清洗 氮气导入(臭氧排气)"流程——通入氧气可提高臭氧发生效率,通入氮气则可对腔体内残留臭氧进行吹扫排气。清洗腔设有两个进气口(清洗前后供气)与一个排气口,接气瓶使用时由电磁阀自动控制供气与排气,全过程无外部空气流入,保持腔内洁净。

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针对臭氧泄漏与紫外线曝露风险,装置设计了多重安全措施。紧凑标准型 UV253V8 采用密闭结构,可在腔内保持 0.02MPa 加压状态,无臭氧泄漏;其他机型可连接 Ozone-Killer(臭氧分解排气装置)以催化分解方式处理残留臭氧。选配件包括臭氧检测系统与门锁机构:臭氧检测系统在清洗结束后测定腔内臭氧浓度,确认低于安全基准后才允许开门;门锁机构在 UV 灯点亮(臭氧发生)期间机械锁定舱门,防止人为误操作。两者联动使用时可提供更高的安全性。

UV 灯方面,装置可根据用途选择两种特性不同的灯型:直管型 UV 灯(经济型)与高密度高出力网格型 UV 灯(高功率、均匀照射)。每款机型均提供熔融石英、合成石英与无臭氧型三种灯管,其中合成石英灯管能更有效地放射 184.9nm 波长的紫外线,可提升整体清洗效率。UV253 系列可对应 8 英寸、12 英寸、16 英寸三种尺寸的晶圆,各机型清洗腔高度均在 120mm 以上,可处理多种形状与高度的样品;该系列已被 400 余家客户采用。

4  产品系列与规格

UV253 系列按光源与尺寸分为多个机型。紧凑标准型 UV253V8 / V8R搭载 3 支直管型低压汞灯(分别采用熔融石英与合成石英灯管),对应 8 英寸晶圆;UV253H / HR 搭载高密度高出力网格灯。12 英寸晶圆对应型 UV253V12(直管灯 5 支)与 UV253H12(网格灯 3 片),16 英寸晶圆对应型 UV253V16(直管灯 7 支)与 UV253H16(网格灯 6 片),清洗腔尺寸随晶圆尺寸增大。各机型均配备数字式氧气、UV 与氮气(臭氧排气)计时器,UV253H / HR O2 UV 计时器为共享式数字计时;较大机型还设有 UV 灯累计工作时间计数器。

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双面照射型 UV253D7 从样品上、下两个方向同时照射 UV,适用于需要双面处理的基板;其氧、UV、氮计时器为模拟式,可选配臭氧分解排气装置与流量计付调压器。Ozone-Killer 臭氧分解排气装置采用催化分解方式:UV253V8 UV253-OZ 排气流量 6L/min、外形 400×300×110mmUV253D7 UV253D7-OZ 排气流量 18L/min、外形 600×400×120mm。流量计付调压器分为氧气用与氮气用,UV253V8 用设定流量 6L/minUV253D7 15L/min,输入侧接口为 W22-14 螺纹(右旋)。UV 灯管为消耗品,按机型提供 3 支装、5 支装、7 支装直管灯或单支网格灯,并区分熔融石英、合成石英与无臭氧三种类型。

5  应用领域

UV 臭氧清洗为干式、非破坏性清洗方法,适用于多种基板与部件表面的有机污染去除。UV253 系列在半导体、纳米科技、电子显微镜与材料表面处理等领域的典型应用如下表所示。

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6  使用要点

气体连接:将氧气与氮气气瓶经流量计付调压器连接至装置进气口,设定流量后由系统自动执行氧气导入、UV 清洗与氮气吹扫排气的循环,全过程无需外部空气流入,可保持腔内洁净并提高臭氧利用效率。

臭氧管理:高浓度臭氧对人体有害,也可能加速装置与实验设备老化。密闭型 UV253V8 可在 0.02MPa 加压状态下无泄漏工作;其他机型建议连接 Ozone-Killer 臭氧分解排气装置,或在通风橱内使用;可选配臭氧检测系统与门锁机构联动,在确认腔内臭氧浓度低于安全基准后再开门操作。

灯管维护:UV 灯管为消耗品,长期使用后紫外线强度下降,应按使用频率定期更换;灯管按机型选用熔融石英、合成石英或无臭氧型,合成石英灯管对 184.9nm 波长的放射效率更高。

选型:按晶圆或基板尺寸选择紧凑标准型(8 英寸)、12 英寸型或 16 英寸型;需要上下双面处理时选用 UV253D7 双面照射型;少量试样快速清洗或新材料研发实验可选用 UV253MINI 手持型,直接在通风橱内覆盖样品使用。

7  结语

Filgen UV253 系列 UV 臭氧清洁器以 184.9nm 253.7nm 双波长紫外线和臭氧的光化学协同作用,实现了对基板有机污染物的无损伤干式去除:无需酸、碱与有机溶剂,常压工作、无需真空,可清洗超声波与湿式清洗难以去除的污染物,并改善基板表面润湿性。装置通过密闭加压结构、自动气体置换与臭氧检测、门锁联动等安全设计控制臭氧泄漏与人为误操作风险,并以直管型与网格型两种灯系覆盖 8 英寸至 16 英寸晶圆及手持式应用,为半导体制造、纳米材料与表面处理等领域的基板清洁提供了高效、安全且可灵活选型的方案。

森泽  2026-09-14  |  阅读:8
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