Microlab 科研型多功能直写光刻系统
报价:面议
品牌: 苏大维格
产地: 江苏
关注度: 150
型号: Microlab 科研型多功能直写光刻系统
标签

半导体行业专用仪器

Microlab 科研型多功能直写光刻系统

国产半导体行业专用仪器

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产品介绍

Microlab科研型多功能直写光刻系统

技术特点

可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL

支持4-8英寸幅面基板

高刷新空间光调制无掩模直写

自动聚焦

3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光

多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)

多任务模式自动运行

GDSII、BMP、STL等文件格式支持

* 参数取决于选配工件台幅面       * 具体指标因工艺差异有所不同

应用示例


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产品小贴士

Microlab 科研型多功能直写光刻系统由苏州苏大维格科技集团股份有限公司提供,产地为江苏,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、综合其他等领域,Microlab 科研型多功能直写光刻系统凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。

据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。

根据官方产品资料显示:Microlab 科研型多功能直写光刻系统的品牌为苏大维格。

在同系列产品中,您还可以选择以下型号:
产品名称 品牌 型号 产地类型 价格
Vortex 2000晶圆半自动光学关键尺寸及套刻测量设备 苏大维格 Vortex 2000 国产 电议
FlexAligner-R500套准纳米压印光刻 苏大维格 FlexAligner-R500 国产 电议
FlexAligner-P350套准纳米压印光刻 苏大维格 FlexAligner-P200&FlexAligner-P350 国产 电议

官方链接:
https://m.cnpowder.com.cn/ns36381/productsdetail_386314.html
来源:苏州苏大维格科技集团股份有限公司
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苏州苏大维格科技集团股份有限公司为您提供苏大维格Microlab 科研型多功能直写光刻系统,Microlab 科研型多功能直写光刻系统产地为江苏,属于半导体行业专用仪器,除了Microlab 科研型多功能直写光刻系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Vortex 2000晶圆半自动光学关键尺寸及套刻测量设备、MiScan 高效混合直写光刻系统、FlexAligner-R500套准纳米压印光刻。
工商信息
企业名称

苏州苏大维格科技集团股份有限公司

企业类型

信用代码

913200007325123786

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