产品摘要

PD-400高真空蒸发镀膜设备可配置4-6组蒸发源（可使用丝状源与舟状源），兼容金属材料蒸发与有机材料蒸发（有机材料蒸发使用钨篮与坩埚组合的蒸发源）。可用来制备金属膜、有机膜及扫描电镜制样等。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV 钙钛矿无机薄膜太阳能电池、半导体、OLED显示研究与开发领域。

产品介绍

设备特点：

★性能**的蒸发电源；保证工艺稳定性及高重复性

★专业真空蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能

★系统采用PLC+触摸屏操作，整体美观操作简单，自动化程度高

★衬底可选择加热或水冷，源基距**350mm

设备参数：

★腔体尺寸（L×W×Hmm)：350×350×450

设备尺寸（L×W×Hmm)：850×1100×1900

★真空极限：优于（5E﹣05）Pa

抽速保压：（8E﹣04）≤30min保压12小时≤5pa

★膜厚均匀性优异（±3％~±5%），重复性优异（±3％~±5%）

★基片台：120mm×120mm

★蒸发源：可搭配4～6组蒸发源（兼容金属与有机），可共蒸或切换蒸发