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PD-400C高真空磁控溅射
报价:面议
品牌: 普迪真空
产地: 湖北
关注度: 1011
型号: PD-400C高真空磁控溅射
标签

半导体行业专用仪器

PD-400C高真空磁控溅射

国产半导体行业专用仪器

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产品介绍

产品摘要

该磁控溅射系统的用户群体为科研院所与高校实验室,核心部件均采用欧美知名品牌,技术先进,性能稳定,自动化程度高可替代进口。

产品介绍

设备特点:

★兼容直流和射频溅射源,溅射金属、非金属及化合物薄膜

★良好的薄膜均匀性和重复性,可沉积金属、半导体和绝缘材料,可拓展沉积多层膜及复合膜

★3个3英寸圆形靶枪,杆状安装,共焦向上溅射

设备参数:

★腔体尺寸(L×W×Hmm):850×1100×1900

★设备尺寸(L×W×Hmm):400×400×380

★基片台:**温度 600℃控温误差±5℃

★真空极限:(5E﹣05)Pa

★抽速保压:(8E﹣04)Pa≤30min保压12小时≤8pa

★托盘均匀性优于±3%~±5%

★溅射靶枪三个(2-3英寸)溅射尺寸2-4英寸


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产品小贴士

PD-400C高真空磁控溅射由武汉普迪真空科技有限公司提供,产地为湖北,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、建材/涂料/油漆、电池/电源、综合其他等领域,PD-400C高真空磁控溅射凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。

据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。

根据官方产品资料显示:PD-400C高真空磁控溅射的品牌为普迪真空。

在同系列产品中,您还可以选择以下型号:
产品名称 品牌 型号 产地类型 价格
ALD-100原子沉积设备 普迪真空 ALD-100原子沉积设备 国产 电议
PD-400高真空蒸镀设备 普迪真空 PD-400高真空蒸镀设备 国产 电议
PD-400S/450S高真空蒸镀设备(手套箱) 普迪真空 PD-400S/450S高真空蒸镀设备(手套箱) 国产 电议

官方链接:
https://m.cnpowder.com.cn/ns35683/productsdetail_377311.html
来源:武汉普迪真空科技有限公司
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武汉普迪真空科技有限公司为您提供普迪真空PD-400C高真空磁控溅射,PD-400C高真空磁控溅射产地为湖北,属于半导体行业专用仪器,除了PD-400C高真空磁控溅射的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供ALD-100原子沉积设备、PD-400高真空蒸镀设备、PD-400S/450S高真空蒸镀设备(手套箱)。
工商信息
企业名称

武汉普迪真空科技有限公司

企业类型

信用代码

91420100MA4KN2CF2B

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