产品摘要

该系列设备为钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、量子点LED、OPV等产业研发专用设备，设备可工艺制备纳米级氧化物、氮化物、金属等薄膜材料。该溅射系统对接手套箱系统实现全制备过程在无水无氧手套箱环境下进行。PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，实现试验样品在真空手套箱环境中完成旋涂、溅射、测试等工艺流程。

产品介绍

设备特点：

★系统可选择配备低气压溅射技术，制备薄膜致密，对基底损伤小

★J溅射腔体采用SUS304不锈钢材料，腔体内表面包括屏蔽板全部镜面抛光，可以获得洁净的工作环境和良好的真空度

★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑+PLC全自动控制可选

设备参数：

★腔体尺寸（L×W×Hmm)：1500×850×1900/1500×850×1900

★设备尺寸（L×W×Hmm)：440×440×450/550×440×450

★基片台：**温度 500℃ 控温误差±1℃

★真空极限：（2E﹣05）Pa

★抽速保压：（8E﹣04）Pa≤20min保压12小时≤5pa     

★托盘均匀性优于±3％~±5%

★溅射靶可选取矩形靶（210mm×210mm/300mm×300mm）和圆形靶溅射尺寸