产品摘要

微波等离子体化学气相沉积设备具有性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积(CVD);材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。

产品介绍

设备特点：

★微波系统微波频率2450±25MHz 微波泄漏≤2 mw/cm²

★真空系统工作气压范围0~250Torr,自动稳压范围40~250Torr

★气路系统自带四路MFC,可扩展至六路

★自带缺水，缺气，电源缺相，等离子体偏移，过温过载，打火等自动保护，生产流程通过工艺配方自动控制，全自动温度控制，气压控制等

★软件配置西门子PLC+10寸西门子触摸显示屏，所有操作均可在触摸屏上完成

设备参数：

★输出功率：0.6kw~6kw /0.6kw~15kw 连续可调

★生长台：沉积台为80mm，高度为110mm/沉积台为100mm，高度为110mm

★基片台：电动升降式水冷直径80mm钼基片台直径≥50mm/电动升降式水冷直径100mm钼基片台直径≥75mm