产品摘要

该设备采用热丝法化学气相沉积技术，主要用来生长金刚石膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等。该设备适合于小批量生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜、刀具表面生长金刚石膜、纳米金刚石膜等。

产品介绍

设备特点：

★升降结构平稳，样品台水平度好，利于生长较均匀厚膜丝架采用特殊结构，热丝的平行度好能长期稳定工作

★更合理的气路布局及更贴合生产工艺的细节考虑，可长期稳定工作

★软件配置西门子PLC+10寸西门子触摸显示屏，操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成

★实现φ100-300mm基片范围内均匀沉积

设备参数：

★腔体尺寸：φ450×H350mm/φ650×H500mm

★基片台：150mmx150mm/200mmx200mm

★温度：热丝温度1800℃-2500℃衬底温度600℃-1000℃,电源型式专用热丝电源15/25kw