产品摘要

该设备用于多种涂层制备，尤其是硬质涂层及防腐耐磨涂层、装饰镀材料制备；可广泛用于大专院校、研究院所和企业器件研发制造及小批量生产。

产品介绍

设备特点：

★设备可配备矩形磁控溅射靶，圆形平面靶、柱状靶，多弧靶，离子源等

★设备功能强大、磁控、多弧、离子源等通用接口安装实现任意组合，可**限度实现多种类膜层的制备

★适合研发实验室初期多用途薄膜制备平台的搭建

设备参数：

★腔体尺寸：304不锈钢腔室Φ650×H700mm

★真空极限：优于（5E﹣05）Pa

★工件架：约Φ350mm，4-6工位公/自转工件架；可加偏压

★工件烘烤温度：室温500±5℃ 可调可控（PID控温）

★工件架转速：0-20RPM可调