产品介绍：

提高洁净的刻蚀环境，保证刻蚀精度和质量，用于晶圆刻蚀工艺

适用机型：

第三代半导体刻蚀机

产品参数：

基材：CVDSiC(纯度>6N)

特点：纯度高，耐腐蚀，高强度，化学性能稳定