A4-SRM系列反射式膜厚测量仪可用于测量半导体镀膜等需要在很小的面积上测量膜厚的场合。通常面积可小于50um或20um。半导体需要测量silicon nitride,photoresist, polysilicon,oxide等在硅上的膜厚或silicon nitride和oxide等多层膜的厚度。我公司针对这一需求,已经推出多款满足国内半导体,半导体封装,平板显示等行业需求的小光斑显微膜厚测量仪,并已在国内多家半导体及相关厂商投入使用。我公司的小光斑显微膜厚测量仪可以配200毫米(8英寸)和300毫米(12英寸)的工作台和CCD摄像头,配有多个物镜,可使用放大倍数较小的物镜进行目标查找,然后再使用较大物镜进行测量。(如图)