设备采用双工位设计，全封闭工作台和强排风系统有效防止腐蚀性碱蒸汽对操作人员的身体伤害。该系统集SiC晶片热强碱腐蚀、快速清洗，再次超声清洗和晶片烘干为一体，充分避免了操作人员与腐蚀性强碱溶剂的接触。整个工艺流程全部自动化控制，操作人员只需完成取放片操作，腐蚀效率高，适合产业化应用。