PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备产品中心

鹏城微纳技术（沈阳）有限公司

1 年

高级会员

已认证

首页

公司介绍

产品中心

访客留言

联系我们

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

报价：面议

品牌：	鹏城微纳
产地：	沈阳
关注度：	353
型号：	PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

展位推荐

金刚石散热晶圆片

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

高真空磁控溅射仪

产品介绍

产品详情

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

设备用途和功能特点

1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。

2、设备保护功能强，具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。

3、配置尾气处理装置。

设备安全性设计

1、电力系统的检测与保护

2、设置真空检测与报警保护功能

3、温度检测与报警保护

4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护

设备技术指标

类型	参数
样片尺寸	≤φ8英寸（或多片2英寸）
样片加热台加热温度	室温～ 600℃±0.1℃
真空室极限真空	≤7×10-5Pa
工作背景真空	≤8×10-4Pa
设备总体漏放率	停泵12小时后，真空度≤10Pa
样品、电极间距	5mm ～ 50mm在线可调
工作控制压强	10Pa ～ 1500Pa
气体控制回路	根据工艺要求配置
单频电源的频率	13.56MHz
双频电源的频率	13.56MHz/400KHz

工作条件

类型	参数
供电	三相五线制 AC 380V
工作环境温度	10℃～ 40℃
气体阀门供气压力	0.5MPa ～ 0.7MPa
质量流量控制器输入压力	0.05MPa ～ 0.2MPa
冷却水循环量	0.6m3/h 水温18℃～ 25℃
设备总功率	7kW
设备占地面积	2.0m ～ 2.0m

单室与多室PECVD设备

问商家

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的工作原理介绍？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的使用方法？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备多少钱一台？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备使用的注意事项
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的说明书有吗？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的操作规程有吗？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的报价含票含运费吗？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备有现货吗？
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备包安装吗？

相关产品

团簇式OLED真空蒸镀工艺装备

型号：团簇式OLED真空蒸镀工艺装备

面议

MOCVD 金属有机化学气相沉积设备

型号： MOCVD 金属有机化学气相沉积设备

面议

LPCVD 低压化学气相沉积设备

型号： LPCVD 低压化学气相沉积设备

面议

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

型号： HFCVD 热丝化学气相沉积设备

面议

推荐产品供应产品

鹏城微纳技术（沈阳）有限公司为您提供鹏城微纳PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备，PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备产地为沈阳，属于半导体行业专用仪器，除了PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供金刚石散热晶圆片、HFCVD 热丝化学气相沉积设备、高真空磁控溅射仪。

工商信息

企业名称

鹏城微纳技术（沈阳）有限公司

企业类型

信用代码

91210104MA7LH39L93

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围