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CVD 真空化学气相沉积设备重点
报价:面议
品牌: 威泰科技
产地: 沈阳
关注度: 659
型号: CVD 真空化学气相沉积设备
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产品介绍

CVD 真空化学气相沉积设备详情

CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石,采用钨丝/钽丝作为加热器,加热分解碳物质,激活化学气相反应,制备金刚石膜。


安装形式

立式

加热器分布方式

圆周分布

加热器材质

钨丝/钽丝

保温材料

MAX温度

3000℃

控温精度

±1℃

均温性

±5℃

极限真空度

5×10-4Pa

均温区尺寸

按客户要求定制

控制方式

自动/手动


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沈阳威泰科技发展有限公司为您提供威泰科技CVD 真空化学气相沉积设备,CVD 真空化学气相沉积设备产地为沈阳,属于半导体行业专用仪器,除了CVD 真空化学气相沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供VSF-V 石英槽沉炉、VHP-H 真空热压炉(卧式)、VSF-H 一体式真空钎焊炉。
工商信息
企业名称

沈阳威泰科技发展有限公司

企业类型

有限责任公司(自然人投资或控股)

信用代码

912101067209203665

法人代表

胡丹萍

注册地址

辽宁省沈阳市沈北新区蒲文路17-18号

成立日期

2000-05-31

注册资本

750万元人民币

有效期限

2000-05-31 至 无固定期限

经营范围

一般项目:泵及真空设备销售,烘炉、熔炉及电炉销售,金属基复合材料和陶瓷基复合材料销售,机械零件、零部件销售,保温材料销售,机械电气设备销售,技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,新材料技术推广服务,新材料技术研发,货物进出口,技术进出口,进出口代理(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)

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