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高压均质技术提高CMP抛光液分散稳定性

目前化学机械抛光(CMP)是世界上公认的可以实现集成电路制造中全局平坦化的技术,其精度可以达到纳米级别。但是想要得到如此高精度的表面质量,除了工艺和设备参数的设定外,抛光液也是关键因素之一。


CMP抛光液一般由去离子水、磨料以及 pH 调节剂、氧化剂、分散剂和表面活性剂等化学助剂等组成,抛光液中磨料的作用是在晶圆和抛光垫的界面之间进行机械研磨,以确保CMP过程中的高材料去除率。


抛光液的抛光性能,受其分散性和悬浮稳定性的影响,随着抛光液放置时间的延长以及抛光过程中化学组分的变化,抛光液中的软磨料或硬磨料都易发生凝胶现象,这会导致抛光过程中在晶圆表面留下划痕,从而影响最终的抛光效果。


因此,如何制备具有良好分散稳定性的抛光液是目前亟待解决的问题。


高压均质技术制备高分散性抛光液


高压均质机通过高压下的强烈剪切和撞击作用,能够将颗粒分散到纳米级别,并保持其稳定的悬浮状态,从而改善抛光液的性能。


依托二十余年的技术积累,ATS的高压均质机在设备性能和技术水平上均处于国内领先地位。设备通过高压、高剪切力的作用,使CMP抛光液中的固体颗粒得以细化并均匀分散于液体中。同时,ATS还不断引入新材料、新工艺,提升设备的耐磨性、耐腐蚀性和稳定性,确保长期稳定运行。

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  • 金属杂质可控,无污染风险

  • 耐腐蚀配件,提高使用年限

  • 有效分散团聚粒子,粒径分布更窄

  • 设备规格齐全,支持规模化生产

  • 对比微射流均质机,容腔不易堵塞,性价比更高


案例分享


1.氧化铈抛光液

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2.二氧化硅抛光液

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3.氧化铝抛光液

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通过上述结果,可以看出使用ATS高压均质机不仅可以提高CMP抛光浆料的性能和质量,还降低了生产成本,提高了生产效率,对于CMP工艺的优化和提升具有重要意义。而且不难看出高压均质机不仅在CMP抛光浆料中有显著优势,还可以应用于其他纳米材料的分散和均质过程,具有广泛的应用前景和市场潜力。

ATS  2024-09-30  |  阅读:389
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