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赛默飞(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射电镜新品
报价:面议
品牌: 赛默飞世尔科技
产地: 捷克
关注度: 5163
型号: Helios 5 Laser PFIB TEM
核心参数

探测器:见参数

加速电压:见参数

电子枪:见参数

电子光学放大:见参数

光学放大:见参数

分辨率:<250 nm

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产品介绍

   Thermo Scientific™ Helios™ 5 Laser PFIB提供了****的能力,极端大体积3D分析,Ga-free样品制备,和精密微加工。具有创新的,完全集成的飞秒激光器,它提供*快的材料去除率和**的切割面质量,是毫米尺度范围纳米分辨率下*快的高质量亚表面和三维表征设备。

产品参数

飞秒激光PFIB

**体积:2000×2000×1000μm3
**束流:~1mA(等效于离子束电流)
切割束流:74μA
束斑尺寸:15μm
激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在样品室中,并具有相同的重合点,
实现精确、可重复的切割位置和三维表征。
一次谐波:波长1030 nm(红外),脉冲宽度<280 fs
二次谐波:波长515 nm(绿),脉冲宽度<300 fs

电子光学:
☆ 三束重合点  WD=4 mm(与SEM/FIB相同)
可变物镜(电动)
偏光:水平/垂直
重复率: 1 kHz~1 MHz
光束定位精度:<250 nm
保护挡板:自动SEM/PFIB保护挡板

软件:
☆ 激光控制软件
激光三维连续切片工作流程
EBSD激光三维连续切片工作流程
激光编程控制脚本*
安全性:互锁式激光防护罩(1 类激光安全)

特点和用途

☆ *快的毫米级横截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍
☆ 通过在更短的时间内采集更大的体积来实现统计学相关的表面下和三维数据分析
☆ 准确、可重复的切割位置,三束交于样品上同一点
☆ 通过提取表面下TEM薄片或块体进行三维分析来实现深层表面下特征快速表征
☆ 实现对不导电或对离子束敏感等具有挑战性的材料进行高吞吐量处理
☆ 实现对空气敏感样品的快速和简单表征,无需在不同仪器之间传送样品来进行成像和获取横截面
☆ Helios 5 PFIB平台的所有功能都非常可靠,包括**质量的无镓 TEM和APT样品制备以及极高分辨率成像能力


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北京欧波同光学技术有限公司为您提供赛默飞世尔科技赛默飞(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射电镜,赛默飞(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射电镜产地为捷克,属于扫描电镜,除了赛默飞(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射电镜的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Ares 60A全自动精密金相切割机、赛默飞(原FEI)透射电镜 Talos F200X S/TEM、赛默飞(原FEI)Apreo 2 超高分辨场发射扫描电镜。
工商信息
企业名称

北京欧波同光学技术有限公司

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信用代码

9111 0101 695 015 46XA

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