真空体积法物理吸附

真空体积法物理吸附

真空体积法化学吸附

动态流动法化学吸附（选配）

真空体积法物理吸附

真空体积法化学吸附

动态流动法化学吸附

范围：2x10-5 至 1100 Torr（N2 77K 下为 2.6x10-8 至 0.997 p/p0）

分辨率 (MP) ：2x10-5 Torr（N2 77K 下为 2.6x10-8 p/p0）

分辨率 (XR)：1x10-6 Torr（N2 77K 下为 1.3x10-9p/p0）

表面积检测限：0.1 m2（N2 77K）

比表面积检出限：0.01 m2/g（N2 77K）

常规再现性：1%（在 BAM P115 上测量）

再现性限值：样品管中总面积为 2 m2 时，为 2%

范围：0.35 nm 至 500 nm（直径）

常规再现性：0.5%（在 BAM P115 上测量）

**检测限值：0.03 m2 （铂 313 K 上的 H2 ）

特定检测限值：0.003 m2 （铂 313K 上的 H2 ）

典型再现性：2%（在氧化铝上的 2% 铂参考样品上测量）

时长：超过 90 小时（液氮）

分析期间补充液氮：可以

容量：3 L

**温度：1100 ℃

**升温速率：每分钟 50 ℃

强制风冷

集成式脱气站：6

温度控制：2 个独立加热站，室温至 450 ℃

专用冷阱：有

可用方式：流动法或真空法，可编程多步骤脱气配置文件，完整流程测试，压力控制加热

45 多个符合 ASTM、DIN 和 ISO 标准的预设分析配置文件

标准配置文件，可轻松选择测量内容

完全控制实验流程的高级配置文件 

基于以往分析文件的快速测量模板

表面积和孔体积：Alpha-s、BET、DR、Gurvich 孔体积、Langmuir、t-plot (STSA)

孔径和孔体积分布：NLDFT、QSDFT、GCMC、Kr(87) 薄膜、BJH、DH、DA、HK、SF、MP

其他：总结报告、数据叠加、平均粒径、平均孔径、分形维数 (NK、FHH)、热吸附

静态体积法测量：外推、包围、Langmuir、Temkin、Freundlich、吸附热

动态流动法测量：TPx (TPR、TPO、TPD) 分峰解叠、脉冲滴定分析、活化能测试

温度：15 ℃ 至 35 ℃（59 ℉ 至 95 ℉）

湿度：20% 至 80% 相对湿度，无冷凝

范围：用户可调 35 ℃ 至 50 ℃

稳定性：±0.05 ℃

类型：不锈钢，气动阀

循环寿命：5000000 次循环

外部泄漏率：5x10-12 Pa·m3/sec

基座泄漏率：5x10-12 Pa·m3/sec

数量：3 至 5（取决于仪器配置）

精度：满量程的± 0.065％* (* 该值涵盖了整个压力测量系统的精度、线性和滞后性)

A/D 数据采集：32 位

数量：1 至 3（取决于仪器配置）

精度：读数的 ± 0.15%（不超过 10 Torr）

分辨率：0.002% 满量程

数量：1 至 3（取决于仪器配置）

精度：读数的 ± 0.15%（不超过 1 Torr）

分辨率：0.002% 满量程

数量：1 至 3（取决于仪器配置）

精度：读数的 ± 0.15%（不超过 0.1 Torr）

分辨率：0.001% 满量程

数量：1

精度：
5×10-4 至 1x10-3 Torr：读数的 ±10%
1×10-3 至 100 Torr：读数的 ±5%

100 Torr 至大气压：读数的 ±25%

涡轮分子泵和隔膜泵

制造商规格：5x10-10 mbar

分析端口常规压力：2.67x10-5 mbar

双丝 TCD 钨/铼丝（选配）

检测限值：0.5 uL（空气注入氦气中）

双丝 TCD 钨/铼丝（标配）

检测限值：0.5 uL（空气注入氦气中）

7 个标配端口（5 个分析口、1 个氦气、1 个脱气/回填）

7 个可选附加分析端口

7 个标配端口（5 个分析口、1 个氦气、1 个脱气/回填）

7 个可选附加分析端口

1个选配滴定吸附气体端口

15 个标配端口（12 个分析、1 个氦气、1 个脱气/回填、1 个滴定）

纯度：99.999%

输入压力：8 psig 至 10 psig（0.55 bar 至 0.69 bar）

输入压力：50 psig 至 100 psig（3.45 bar 至 6.9 bar）

供电：100 至 240 VAC ±10%, 50 或 60Hz

**功耗：1600W （取决于仪器配置）