当前集成电路先进制程迭代加速，CMP 化学机械抛光是实现晶圆全局平坦化的核心制程，而平坦化质量的关键，在于抛光液（Slurry）中大颗粒计数（LPC）的精准管控，直接决定晶圆表面缺陷控制水平与产品良率。

2026 年平坦化技术大会暨海峡两岸平坦化技术论坛将于 2026 年 5 月 22 日至 24 日在中国成都召开本次大会旨在汇聚海峡两岸高等院校、科研院所和产业界从事平坦化技术相关工作的专家学者与技术人员，围绕平坦化技术的发展现状、核心痛点、LPC 等关键指标管控与未来趋势开展深入的学术与技术交流，共同推动平坦化技术研究水平的提升及其在产业中的应用，助力相关领域的创新发展。

奥法美嘉将参展本次技术交流会议。

会议时间：5月23 -24日

会议地址：四川 成都 金牛宾馆

奥法美嘉展位：08展台，期待您的莅临。

奥法美嘉科技集团（Alpharmaca Inc.）创立于2010年，总部及研发中心坐落于中国上海，为国家级高新技术企业。作为纳米材料的一体化解决方案提供商，我们提供颗粒制备、颗粒标准、过程控制、在线控制等全流程的设备及服务。

颗粒制备——PSI高压微射流均质机

PSI高压微射流均质机以其稳定可控的均质压力及高剪切力保证了工艺可线性放大且可保证大产量需求，低噪音的设计理念可大大减缓传统工艺中的高噪音对于操作人员的不利影响，小巧紧凑的机身设计可以完美适应从实验室研发到中试及大生产的各种工作场景。依托于医药行业的GMP管理理念，PSI均质机的现代化数字屏幕，符合GMP法规的数据溯源系统将会是未来高端制造业的有力保障。

颗粒表征——Entegris（PSS）液体颗粒计数器

AccuSizer^® A2000、A7000、A9000液体颗粒计数器具有高灵敏度，高分辨率，高达1024个数据通道等特点。在检测液体中的颗粒数量的同时精确测量颗粒的粒度及粒度分析，结合全新一代软件的强大分析功能，通过真实精细的分布结果，广泛服务于医药、半导体、精细化工、光电等领域。

颗粒表征——Entegris（PSS）纳米激光粒度仪

Nicomp^® 3000系列纳米激光粒度仪采用动态光散射原理检测分析样品的粒度分布。基于多普勒电泳光散射原理检测ZETA电位。独有的0.9°步进型多角度模块和Nicomp^® 多峰分布可分辨体积比1:2的多组分，可为客户提供精确的纳米颗粒粒度表征和粒度分布测试。

颗粒表征——LUM稳定性分析仪

LUMiSizer^® 是一款稳定性分析仪，基于重力沉降法的原理，应用LUM（罗姆）的STEP技术（Space Time resolved Extinction Profiles, 空间时间消光图谱法）可快速、简单地量化乳液、胶体、悬浮液等液相分散体系的稳定性——沉降、上浮、熟化、聚结等行为，一次可同时测定12个样品，可以快速判定和量化其稳定性和效期。

颗粒表征——LUMiSpoc单粒子光学计数器

LUMiSpoc 是一款单颗粒分析系统，它采用单粒子光散射技术（SPLS,Single Particle Light-Scattering），能精准测量悬浮液和乳液中纳米级和微米级颗粒的粒度分布与颗粒浓度(颗粒数量)，可以对40nm高浓度样品进行计数。

会议议程