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机械剥离氧化硅/硅基底二硒化钨
报价:面议
品牌: 先丰纳米
产地: 江苏
关注度: 4058
型号: 101050
核心参数

目数:10 mmx10 mm

品级:一级

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产品介绍
货号CAS号编号包装参数
1010507440-33-7XFG231 盒基底尺寸: 10 mmx10 mm

产品名称

中文名称: 机械剥离氧化硅/氧化硅基底二硒化钨

英文名称:Mechanical exfoliation WSe2 on SiO2/Si

 

性质

形态:薄膜

参数

基底:氧化硅/硅

基底尺寸:10 mmx10 mm

氧化层:300nm

WSe2面积:>10 μm2



应用

先丰纳米**推出机械剥离制备的二硒化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。


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工商信息
企业名称

江苏先丰纳米材料科技有限公司

企业类型

信用代码

913201065628687681

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