设备特点

成膜好:采用悬浮镀膜技术或贴辊镀膜技术，基材表面不易划伤，膜层均匀。合理的冷却结构设计，避免基材镀膜过程中变形:

结构新:错位式装靶结构或包围式装靶结构设计;

适用广:可配备不同的磁控阴极，如平面靶、圆柱靶:可适用多种柔性基材。

应用领域

设备主要采用磁控溅射镀膜工艺，适合在柔性卷材，如:PET、BOPP PEN、PI、PC、PE等有机薄膜或纤维布料、纸卷、海绵、金属卷材、超薄玻璃等，沉积功能性或装饰性等膜层。可以镀制的膜层包括:Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO、C等导电膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者Si0z、Nbz0,、Al0:等介质膜，可以实现单层或多层功能性或装饰性膜层的制备。设备可以应用于制备挠性覆铜板、导电布、电磁屏蔽膜、锂 电池复合铜箔、透明导电膜、散热膜、高反膜等产函。