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原子层沉积(ALD)镀膜机
报价:面议
品牌: 汇成真空
产地: 广东
关注度: 1360
型号: 原子层沉积(ALD)镀膜机
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半导体行业专用仪器

原子层沉积(ALD)镀膜机

国产半导体行业专用仪器

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产品介绍

原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法,通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。

ALD设备提供创新和灵活的设计,为MEMS和复杂的3D表面沉积高质量的光学薄膜,显着提高镀膜产品的性能和使用寿命,设备运行速度快、可靠性高且极易维护。

特点:

•热法原子层沉积(TALD)和等离子增强原子层沉积(PEALD)可选
•批量镀膜加工(基材尺寸:8",10",12")
•低温工艺,塑料基材可镀
•3D表面镀膜高保形性
•薄膜均匀、光滑、致密、无针孔
•膜厚精确控制

型号HC-ALD10
真空室Φ800 x H1300mm
成膜室Φ350 x H1000mm
成膜室抽速8.0×10-2Pa≤25min
成膜室极限真空度8.0×10-4Pa
沉积温度Max. 130℃
基片架10"×48pcs
等离子源RF 等离子体源
前驱体供给源前驱体源瓶、ALD 阀门、前驱体(BDEAS、TMA等)
排气系统干泵 + 低温泵


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产品小贴士

原子层沉积(ALD)镀膜机由广东汇成真空科技股份有限公司提供,产地为广东,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、矿业/冶金、综合其他等领域,原子层沉积(ALD)镀膜机凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。

据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。

根据官方产品资料显示:原子层沉积(ALD)镀膜机的品牌为汇成真空。

在同系列产品中,您还可以选择以下型号:
产品名称 品牌 型号 产地类型 价格
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官方链接:
https://m.cnpowder.com.cn/ns35706/productsdetail_377751.html
来源:广东汇成真空科技股份有限公司
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广东汇成真空科技股份有限公司为您提供汇成真空原子层沉积(ALD)镀膜机,原子层沉积(ALD)镀膜机产地为广东,属于半导体行业专用仪器,除了原子层沉积(ALD)镀膜机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供高精密电子束蒸发镀膜机、多腔磁控溅射光学镀膜机、高精密多腔磁控溅射光学镀膜机。
工商信息
企业名称

广东汇成真空科技股份有限公司

企业类型

信用代码

91441900791240616U

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