管式化学气相沉积设备 100/CVD200 镀膜方式：化学气相沉积； 真空腔室结构：高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢； 真空腔室尺寸：Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm； 基片台尺寸：  2英寸 / 定制生长车（分层）；    一、产品特点： 该设备是利用高温化学气相沉积技术，石英管生长室清洁无污染；多路气体控制合理；PID加热温度高控温。高真空环境，兼具真空退火炉功能。 二、主要用途：    可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。 三、适用范围：    适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。 四、技术参数：