加热温度：室温～300℃； 真空腔室尺寸：Φ500×H650mm； 膜厚不均匀性：≤±5.0%； 真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统；    蒸发镀膜机工作原理是将钨板制成船形，安装在两个电极之间，在钨舟中心加药，然后慢慢给电极通电，电流通过钨舟和钨电加热。这些低压和高电流使钨舟产生热量，然后传热到涂层材料上。该方法操作简单，结构简单，成本低，适用于当钨槽中的热量高于涂层熔点时，材料升华或蒸发。因此，它被许多设备使用，但由于其密封性能差，以及许多材料不能蒸发，因此它有一些局限性。当钨合金蒸发涂层材料时，材料的熔点必须小于其熔点，否则不能进行。 产品概述: 1.适用：高校、科研院所和企业开展薄膜新材料科研和小批量制备。 2.产品特点/用途： 综合设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低； 适用于制备金属单膜、半导体膜、有机膜、生产线早期工艺试验等。 适用于光学膜、导电膜、半导体膜、铁电膜等的制备。