真空系统：国产或进口分子泵/扩散泵+罗茨泵+机械泵高真空系统； 

极限真空：优于2.0×10-4Pa； 

抽速：从大气到3.3×10-3Pa≤30min， 升压率关机12小时后真空度≤10Pa； 

工件架尺寸：可根据尺寸定制；

一、产品概述 

 1、主要用途： 适合在大面积玻璃、亚克力板、PC表面沉积纳米级金属膜（金、银、铜、铝、铬等）、半导体膜（ITO、AZO等）、介质膜（氧化钛、氧化铬、氧化钨）、电致变色薄膜层等，广泛应用在光伏、光电、触摸屏、半导体、平板电极及建筑装饰玻璃等行业。 

 2、产品优点及特点： 采用磁控溅射方式，沉积速率快，膜层均匀致密，光亮度好，在大面积上的镀膜不均匀性≤±5%，特别适合有功能性要求的膜层制备及控制；例：镀膜导电膜层，电阻值均匀可控，可以控制为稳定电阻，也可控制为渐变电阻。加上自主开发全自动控制系统可实现一键化操作；保证产品镀膜性能连续稳定；设备采用模块化设计，可根据生产量增加镀膜模块及其他拓展模块，设备易拆卸、维护保养。