金属污染物M-SPEC系列

Full Automatic in Line System

Detection Limit: ~1ppt

Time to data: 30min ~ 1hrs

Detector: ICP-MS

Throughput: 3-6 per hour

自主研制的晶体生长、研磨抛光、光学量测、化学检测、芯片测试等设备， 已广泛运用于半导体集成电路制造的前、中、后道。