化学湿法清洗设备

• 适用于晶圆CMP后清洗

• 全自动的高自动化形式（湿进干出）

• 支持 6"、4"晶圆清洗

• 配备自净功能

• 内外环境隔离：干湿分离

• 晶圆缺失检测报警系统

• 旋干及热N₂ 吹干系统