HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉积设备
报价:面议
品牌: 盛吉盛
产地: 浙江
关注度: 32
型号: 12吋薄膜沉积设备
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产品介绍

HDPCVD通过特殊的硬件和射频系统设计,可以获得比传统PECVD高1至2个数量级的高密度等离子体,因其填充能力强、薄膜质量好的特点广泛应用于浅槽隔离、介质层填充、钝化层填充等具有一定深宽比的结构中。

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盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司为您提供盛吉盛HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉积设备,HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉积设备产地为浙江,属于半导体行业专用仪器,除了HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供12吋薄膜沉积设备 PECVD-ZARVIS、U380S 系列缺陷检测设备、缺陷检测设备 U315 系列。
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