化学机械抛光(CMP)帮助平滑晶圆表面，是VLSI制造的一个重要部分。化学机械抛光垫修整对于保证稳定的CMP研磨是必要的。我司提供各种CMP修整器满足不同的晶圆形状和规格。

产品特点

化学机械抛光(CMP)帮助平滑晶圆表面，是VLSI制造的一个重要部分。化学机械抛光垫修整对于保证稳定的CMP研磨是必要的。我司提供各种CMP修整器满足不同的晶圆形状和规格。