技术特点：

●  亚微米线宽工艺

●  高均匀性和一致性

●  去离子水减少高达80% 

●  工艺介质减少高达80%

●  封闭式系统

●  可柔性多腔室组合

设备用途：

●  闪蚀工艺

●  清洗工艺

●  剥膜工艺

●  显像工艺

技术特点：

●  亚微米线宽工艺

●  高均匀性和一致性

●  去离子水减少高达80% 

●  工艺介质减少高达80%

●  封闭式系统

●  可柔性多腔室组合

设备用途：

●  闪蚀工艺

●  清洗工艺

●  剥膜工艺

●  显像工艺

技术特点：

●  亚微米线宽工艺

●  高均匀性和一致性

●  去离子水减少高达80% 

●  工艺介质减少高达80%

●  封闭式系统

●  可柔性多腔室组合

设备用途：

●  闪蚀工艺

●  清洗工艺

●  剥膜工艺

●  显像工艺