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精密实验对基材洁净度的要求极高，哪怕是肉眼不可见的微量有机残留，也会直接造成镀膜脱落、实验数据偏移、器件良品率下降。传统清洗方式各有短板，溶剂浸泡容易腐蚀特殊薄膜基材，超声波清洗会震损薄型试样，人工擦拭不仅效率低，还容易产生二次污染，很难满足高精实验的预处理标准。对于中小型实验室而言，大型真空清洗设备造价高、占地大，实用性极低。
Filgen uv253mini小型紫外臭氧清洗机，主打轻量化精密清洗方案，适配各类高端实验的前置处理工序。设备依靠紫外光配合臭氧的协同氧化作用，温和分解基材表面油污、有机残留与微量杂质，全程无接触、无耗材、无化学残留。玻璃、石英晶片、硅片、高分子薄膜等各类精密试样，都可以通过该设备完成洁净处理，不会损伤基材表层结构。
设备无需复杂安装调试，开机即可作业，清洗时长可按需微调，适配小批量、多品类的试样清洗需求。机身小巧不占用实验台面，运行稳定静音，适配高校实验室、科研院所、精密电子研发工作室等场景，是精密试样预处理的高适配小型设备。
简短介绍：便携式手持式紫外臭氧清洗设备，依靠 184.9nm、253.7nm 双波长紫外协同臭氧完成干式清洗，清除基材表面有机污染物，弥补超声波、溶剂湿法清洗短板。机身小巧轻便，操作简单，适配实验室小样品前处理，广泛用于半导体、电镜样品、光学镜片表面活化清洗。
核心产品特性：搭载低压汞直管紫外灯，同时输出 184.9nm、253.7nm 双波段紫外光；184.9nm 激发空气中氧气生成臭氧，253.7nm 激活臭氧，光化学反应氧化分解各类有机残留，属于无损伤干式清洗工艺。整机重量约 630g，体积紧凑可手持移动作业；宽电压电源 AC100～240V 通用，国内外实验室均可直接使用。标配熔融石英灯管版本 UV253MINI；可选 UV253MINIR 合成石英灯管，184.9nm 紫外输出更高，清洗效率提升。表面紫外强度 5.2mW/cm²，作业区域臭氧浓度约 50ppm。无需腔体、无需外接气源，直接在通风橱内放置样品覆盖使用，启动开关即可工作。适用硅片、ITO 基板、光学镜片、电镜载网、AFM 探针、高分子基材表面除胶、表面亲水改性。可搭配选配臭氧分解装置，优化实验室作业环境。适合少量试样快速清洗、新材料研发实验，相比台式腔体款性价比突出。外形尺寸：180 (W)×80 (D)×130 (H) mm，功耗低，维护简便；仅需定期更换紫外灯管。适用行业：半导体实验室、光电材料、透射 / 扫描电镜样品前处理、薄膜镀膜预处理、生物实验耗材清洗。
