以氧化铝为原料制备，SIC衬底晶圆加工，PH为碱性，适合单片及多片两种加工工艺

01.本产品适合多片抛光加工及单片加工这两种加工工艺:

0 2.含高锰酸钾碱性氧化硅抛光液;

03.建议配合树脂或者聚氨酯抛光垫配套使用:

04.如需要单片加工使用，建议添加对应助剂调整PH值。