设备主要特点

◎ 采用先进的闭环控制系统，压力稳定无波动

◎ 高精度温控系统

◎ 工艺薄膜均匀性优异

★支持SECS/GEM通讯

主要技术指标

◎ 适用硅片尺寸:4~6"

◎ 工作温度范围:350℃~800℃

◎ 恒温长度:300-1100mm(可定制)