PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉，它可使零件表面富含氮和/或碳，从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺，特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化（PPNTM）和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗（PPNCTM）应用了等离子体扩散方法，相比于传统的氮化工艺（如盐浴软氮化或气体氮化），它为客户提供了众多优势，而且对环境友好，有助于节约资源:

• 工艺气体和电力消耗低

• 使用环保型工艺气体

• 灵活的处理温度，温度范围350℃ – 600℃

• 可选择使用机械盖板进行局部处理

• 用于处理高合金钢和不锈钢（保持抗腐蚀能力）

• 可对氮化层结构进行控制

• 用于处理烧结的铁/钢以及钛和铝等有色金属

PlaTeG-PP120

尺寸：直径1000mm x 高度1600mm

根据装载产品和所需的处理结果，可以进行各种PulsPlasma® 扩散工艺：

• PPNTM-PulsPlasma® 氮化：通过氮的扩散提高大多数钢、钛合金和铝合金的耐磨损和耐腐蚀能力；

• PPCNTM- PulsPlasma®氮碳共渗：通过氮和碳的扩散增强钢的耐磨损和耐腐蚀能力；

• PPCTM-PulsPlasma® 渗碳：通过碳的扩散提高不锈钢的耐磨损和耐腐蚀能力；

• PPOTM-PulsPlasma®氧化处理：对钢铁表面进行氧化处理，有助于提高耐腐蚀性并降低摩擦系数；

• LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM对铬含量大于13%的不锈钢零件进行处理，在保持耐腐蚀性的同时还可以提高耐磨性；

设备类型 / 灵活和可靠的工艺

根据客户的需求及相关应用，可对炉子进行量身设计。

• 钟罩式系统（标准）

• 井室炉

• 卧式炉 (水平)

PVA TePla坚信简化系统及部件和确保安全性是相当重要的事情。为此，我们不断与时俱进，自主研发并设计出多款出色且适应性强的系统。

H-卧式炉：

用于大型和重型零件

M-单室型设备：

带有一个真空钟罩

S-交替型设备：

带有一个真空钟罩和两个钟罩底座

T-双室型设备：

带有两个真空钟罩和两个钟罩底座