应用于集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等；适用工艺有扩散、氧化、退火、合金。

• 设备成熟稳定，可靠性高；

  恒温区自动调整，串级控制，可准确控制反应管的实际工艺温度。

• 晶片尺寸：2*—6*；

  工艺温度：400℃—1300℃；

  恒温区长度：800mm — 1000mm。

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