PECVD镀膜设备即等离子体增强化学气相淀积设备，是利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。

M82300-3/UM型五管PECVD设备既可用于淀积电池片正面氧化硅减反射膜，也可用于淀积电池片背面钝化膜。

• 硅片尺寸可从166mm兼容到220mm;

  单管载片量可到680片，双舟设计；

  辅助加热技术，可大幅改善工艺均匀性；

  具备背面氧化铝工艺能力。